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GDZT-50-200-40冷熱一體循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
高低溫一體機裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
-80℃高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-30高低溫循環(huán)裝置廠家能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。溫度控制范圍寬,全程不需更換導熱介質,導熱介質消耗少。液位顯示功能,隨時監(jiān)控液位,避免缺液。
GDZT-100-200-30密閉式制冷加熱循環(huán)器能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
高低溫一體機GDZT-20-200-40能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
密閉高低溫恒溫水浴槽GDZT-20-200-30能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
高低溫循環(huán)裝置(-40-200℃)能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。